Košík

0437396 - ÚPT 2015 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Jákl, Petr
SMV-2014-09: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci.
[SMV-2014-09: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization.]
Brno: Měřící technika Morava, s.r.o, 2014. 2 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: two-photon photopolymerization * nanolitography * optical litography * holography
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0240986