Košík

0434553 - ÚPT 2015 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
Krátký, Stanislav - Urbánek, Michal - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Šerý, Mojmír - Mikel, Břetislav
Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami.
[Phase photo masks produced by means of electron beam lithography and ion etching for Bragg gratings.]
Sborník příspěvků multioborové konference Laser54. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2014, s. 31-32. ISBN 978-80-87441-13-8.
[Laser54. Třešť (CZ), 29.10.2014-31.10.2014]
Grant CEP: GA MŠMT(CZ) LO1212; GA MŠMT ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233; GA TA ČR TE01020118
Institucionální podpora: RVO:68081731
Klíčová slova: electron beam lithography * industrial holography
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0238707