Košík

  1. 1.
    0434553 - ÚPT 2015 RIV CZ cze C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Krátký, Stanislav - Urbánek, Michal - Kolařík, Vladimír - Horáček, Miroslav - Chlumská, Jana - Matějka, Milan - Šerý, Mojmír - Mikel, Břetislav
    Fázové masky vyrobené elektronovou litografií a iontovým leptáním pro přípravu vláken s braggovými mřížkami.
    [Phase photo masks produced by means of electron beam lithography and ion etching for Bragg gratings.]
    Sborník příspěvků multioborové konference Laser54. Brno: Ústav přístrojové techniky AV ČR, 2014, s. 31-32. ISBN 978-80-87441-13-8.
    [Laser54. Třešť (CZ), 29.10.2014-31.10.2014]
    Grant CEP: GA MŠk(CZ) LO1212; GA MŠk ED0017/01/01; GA TA ČR TE01020233; GA TA ČR TE01020118
    Institucionální podpora: RVO:68081731
    Klíčová slova: electron beam lithography * industrial holography
    Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0238707