Košík

0426257 - ÚPT 2014 RIV CZ cze V - Výzkumná zpráva
Jákl, Petr - Šerý, Mojmír - Zemánek, Pavel
SMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci.
[SMV-2013-19: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization.]
Brno: Měřící technika Morava s.r.o, 2013. 2 s.
Zdroj financování: N - neveřejné zdroje
Klíčová slova: holography * laser beam shaping * polymerization
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0232033