Košík

0371285 - FZÚ 2012 RIV CZ cze L - Prototyp, funkční vzorek
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Straňák, Vítězslav - Šmíd, Jiří - Jastrabík, Lubomír - Kment, Štěpán - Dejneka, Alexandr
Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely.
[Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes.]
Interní kód: FS1/FZÚ/2011 ; 2011
Technické parametry: Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
Ekonomické parametry: Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
Grant CEP: GA TA ČR TA01010517
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: sputtering * optical thin films * plasma * deposition * magnetron * hollow cathode
Kód oboru RIV: BH - Optika, masery a lasery
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0204834