Košík

0358552 - FZÚ 2012 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
Virostko, Petr - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Tichý, M.
Ion current to a substrate in the pulsed dc hollow cathode plasma jet deposition system.
Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 43, č. 12 (2010), s. 1-7. ISSN 0022-3727. E-ISSN 1361-6463
Grant CEP: GA AV ČR KAN301370701; GA ČR GP202/09/P159; GA ČR GA202/09/0800
Grant ostatní: AVČR(CZ) M100100915
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z10100522
Klíčová slova: plasma * pulsed DC * ion flux * hollow cathode
Kód oboru RIV: BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Impakt faktor: 2.105, rok: 2010
http://stacks.iop.org/JPhysD/43/124019
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0196554