Košík

  1. 1.
    0350671 - ÚPT 2011 RIV CZ eng C - Konferenční příspěvek (zahraniční konf.)
    Urbánek, Michal - Kolařík, Vladimír - Král, Stanislav - Dvořáková, Marie
    Determination of proximity effect forward scattering range parameter in e-beam lithography.
    Proceedings of the 12th International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation. Brno: Institute of Scientific Instruments AS CR, v.v.i, 2010 - (Mika, F.), s. 67-68. ISBN 978-80-254-6842-5.
    [International Seminar on Recent Trends in Charged Particle Optics and Surface Physics Instrumentation /12./. Skalský dvůr (CZ), 31.05.2010-04.06.2010]
    Grant CEP: GA MPO FR-TI1/576; GA MŠMT ED0017/01/01
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
    Klíčová slova: electron beam lithography * proximity effect
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    http://arl-repository.lib.cas.cz/uloziste_av/UPT-D/cav_un_epca-0350671_01.pdf
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0190611
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.