Košík

0341918 - ÚPT 2011 RIV JP eng J - Článek v odborném periodiku
Schauer, F. - Schauer, Petr - Kuřitka, I. - Hua, B.
Conjugated Silicon–Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Meditated Degradation Processes in Polysilanes.
Materials Transactions. Roč. 51, č. 2 (2010), s. 197-201. ISSN 1345-9678. E-ISSN 1347-5320
Grant CEP: GA AV ČR IAA100100622
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
Klíčová slova: ultra violet degradability * polysilylenes * weak bond * conformation defect * nanorezists
Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
Impakt faktor: 0.779, rok: 2010
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0184761