Košík

  1. 1.
    0308203 - ÚPT 2008 RIV GB eng J - Článek v odborném periodiku
    Hovorka, Miloš - Frank, Luděk - Valdaitsev, D. - Nepijko, S. - Elmers, H. - Schönhense, G.
    High-pass energy-filtered photoemission electron microscopy imaging of dopants in silicon.
    [Studium vlastností dotovaného křemíku pomocí fotoemisní elektronové mikroskopie s využitím energiového filtru.]
    Journal of Microscopy. Roč. 230, č. 1 (2008), s. 42-47. ISSN 0022-2720. E-ISSN 1365-2818
    Grant CEP: GA ČR GA102/05/2327
    Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z20650511
    Klíčová slova: dopants * energy-filtered imaging * PEEM * silicon
    Kód oboru RIV: JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Impakt faktor: 1.409, rok: 2008
    Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0160757
     
     

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.