Košík

0179279 - UFP-V 20030158 CZ eng A - Abstrakt
Nohava, Jiří - Jedrzejowski, P.
Low Temperature Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) of TiN on Si Substrates.
Workshop ČVUT 2001. Praha: ČVUT Praha, 2001. s. 458-459. ISBN 80-01-02335-4.
[Workshop ČVUT 2001. 05.02.2001-07.02.2001, Praha]
Výzkumný záměr: CEZ:AV0Z2043910
Klíčová slova: PECVD, titanum nitride, low temperature
Kód oboru RIV: JK - Koroze a povrchové úpravy materiálů
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0076081