Košík

0462264 - FZÚ 2017 RIV cze P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor
Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Kment, Štěpán - Olejníček, Jiří - Adámek, Petr - Straňák, Vítězslav
Vysokofrekvenční aparatura pro měření parametrů plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny.
[Radio-frequency apparatus for measuring plasma parameters by making use of wave resonance of electron cyclotron wave.]
2016. Vlastník: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Datum udělení vzoru: 07.06.2016. Číslo vzoru: 29519
Grant CEP: GA TA ČR TA03010743
Institucionální podpora: RVO:68378271
Klíčová slova: ECWR * low-temprature plasma * thin film * plasma density * plasma deposition
Obor OECD: Fluids and plasma physics (including surface physics)
https://isdv.upv.cz/doc/FullFiles/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0029/uv029519.pdf
Trvalý link: http://hdl.handle.net/11104/0261744