Počet záznamů: 1
Pulsed Laser Deposition under Low Background Gas Pressure.
- 1.
SYSNO 0508744 Název Pulsed Laser Deposition under Low Background Gas Pressure. Tvůrce(i) Koštejn, Martin (UCHP-M) RID, SAI, ORCID
Fajgar, Radek (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Dřínek, Vladislav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Jandová, Věra (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Klementová, Mariana (FZU-D) RID, ORCID
Bakardjieva, Snejana (UACH-T) [CIT] SAI, RID, ORCIDKorespondující/senior Koštejn, Martin - Korespondující autor Zdroj.dok. Programme. Book of Abstracts. - Prague : Czech Chemical Society, 2019 Konference International Conference on Advanced Laser Technologies ALT’19 /27./, 15.09.2019 - 20.09.2019, Prague Číslo článku LP-O-5 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant StrategieAV21/3, CZ - Česká republika Institucionální podpora UCHP-M - RVO:67985858 ; FZU-D - RVO:68378271 ; UACH-T - RVO:61388980 Jazyk dok. eng Země vyd. CZ Klíč.slova laser deposition * gas pressure * nanoparticles Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0299571 Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup SKMBT_C22019092314120.pdf 13 373.1 KB Vydavatelský postprint povolen
Počet záznamů: 1