Počet záznamů: 1  

Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm

  1. 1.
    SYSNO0486974
    NázevSurfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
    Překlad názvuSurfatron plasma source for substrates up to 100 mm
    Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Tvarog, Drahoslav (FZU-D)
    Pultar, M. (CZ)
    Šmíd, Jiří (FZU-D)
    Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Poruba, Aleš (FZU-D) RID
    Vaněk, J. (CZ)
    Pečiva, L. (CZ)
    Lukašík, P. (CZ)
    Dolák, J. (CZ)
    Vyd. údaje2017
    PoddruhFunkční vzorek
    Int.kódFV1/FZU/2017
    Technické parametryLaboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Ekonomické parametryVyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
    Název vlastníkaFyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    Druh dok.Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor
    Grant TF03000025 GA TA ČR - Technologická agentura České republiky
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0281681