Počet záznamů: 1
Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
- 1.
SYSNO 0486974 Název Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm Překlad názvu Surfatron plasma source for substrates up to 100 mm Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tvarog, Drahoslav (FZU-D) ORCID
Pultar, M. (CZ)
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Poruba, Aleš (FZU-D) RID
Vaněk, J. (CZ)
Pečiva, L. (CZ)
Lukašík, P. (CZ)
Dolák, J. (CZ)Vyd. údaje 2017 Poddruh Funkční vzorek Int.kód FV1/FZU/2017 Technické parametry Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum Ekonomické parametry Vyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč. Název vlastníka Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Druh dok. Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant TF03000025 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova Microwave surfatron * thin films * low-temperature plasma * ALD * deposition * plasma diagnostics Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0281681
Počet záznamů: 1