Počet záznamů: 1

Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu

SYSNO	0481686
Název	Způsob řízení rychlosti depozice tenkých vrstev ve vakuovém vícetryskovém plazmovém systému a zařízení k provádění tohoto způsobu
Překlad názvu	A method of controlling the rate of deposition of thin layers in a vacuum multi-nozzle plasma system and a device for implementing this method
Tvůrce(i)	Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Šmíd, Jiří (FZU-D) Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID}
Vyd. údaje	2017
Vlastník	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
Datum udělení patentu	13.09.2017
Číslo patentového spisu	306980
Kategorie patentu	E - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR)
Kód vydavatele patentu	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Druh dok.	Patentový dokument
Grant	TF01000084 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	cze
Klíč.slova	hollow cathode * plasma nozzle * deposition * thin films
URL	https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10241583&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0277207

Počet záznamů: 1