Počet záznamů: 1  

Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu

  1. 1.
    SYSNO0476548
    NázevZpůsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu
    Překlad názvuA method of measuring deposition low pressure plasma using wave resonance of electron cyclotron waves and a device for performing this method
    Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Adámek, Jan (FZU-D)
    Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
    Vyd. údaje2017
    VlastníkFyzikální ústav AV ČR, v. v. i
    Datum udělení patentu31.05.2017
    Číslo patentového spisu306799
    Kategorie patentuE - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR)
    Kód vydavatele patentuCZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
    Druh dok.Patentový dokument
    Grant TA03010743 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    Jazyk dok.cze
    Klíč.slova plasma deposition * electrone-cyclotrone wave * acoustic emission
    URLhttps://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10195504&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0273025
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.