Počet záznamů: 1
Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu
- 1.
SYSNO 0476548 Název Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu Překlad názvu A method of measuring deposition low pressure plasma using wave resonance of electron cyclotron waves and a device for performing this method Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Adámek, Jan (FZU-D)
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCIDVyd. údaje 2017 Vlastník Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i Datum udělení patentu 31.05.2017 Číslo patentového spisu 306799 Kategorie patentu E - Úřad průmyslového vlastnictví (patentový úřad ČR) Kód vydavatele patentu CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Druh dok. Patentový dokument Grant TA03010743 GA TA ČR - Technologická agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. cze Klíč.slova plasma deposition * electrone-cyclotrone wave * acoustic emission URL https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10195504&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot= Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0273025
Počet záznamů: 1