Počet záznamů: 1
Characterization of thin MnSi and MnGe Layers Prepared by Reactive UV Pulsed Laser Deposition.
- 1.
SYSNO 0465309 Název Characterization of thin MnSi and MnGe Layers Prepared by Reactive UV Pulsed Laser Deposition. Tvůrce(i) Koštejn, Martin (UCHP-M) RID, SAI, ORCID
Fajgar, Radek (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Dytrych, Pavel (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Kupčík, Jaroslav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Dřínek, Vladislav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Jandová, Věra (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Huber, Š. (CZ)
Novotný, F. (CZ)Zdroj.dok. Thin Solid Films. Roč. 619, NOV 30 (2016), s. 73-80. - : Elsevier Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GC15-08842J GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora UCHP-M - RVO:67985858 Jazyk dok. eng Země vyd. CH Klíč.slova diluted ferromagnetic semiconductor * reactive pulsed laser deposition * silicide Spolupracující instituce Vysoká škola chemicko-technologická (Česká republika)
České vysoké učení technické (Česká republika)Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0266707 Název souboru Staženo Velikost Komentář Verze Přístup 0465309.pdf 2 2 MB Vydavatelský postprint povolen
Počet záznamů: 1