Počet záznamů: 1  

Characterization of thin MnSi and MnGe Layers Prepared by Reactive UV Pulsed Laser Deposition.

  1. 1.
    SYSNO0465309
    NázevCharacterization of thin MnSi and MnGe Layers Prepared by Reactive UV Pulsed Laser Deposition.
    Tvůrce(i) Koštejn, Martin (UCHP-M) RID, SAI, ORCID
    Fajgar, Radek (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Dytrych, Pavel (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Kupčík, Jaroslav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Dřínek, Vladislav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Jandová, Věra (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Huber, Š. (CZ)
    Novotný, F. (CZ)
    Zdroj.dok. Thin Solid Films. Roč. 619, NOV 30 (2016), s. 73-80. - : Elsevier
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    Grant GC15-08842J GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaUCHP-M - RVO:67985858
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.CH
    Klíč.slova diluted ferromagnetic semiconductor * reactive pulsed laser deposition * silicide
    Spolupracující instituce Vysoká škola chemicko-technologická (Česká republika)
    České vysoké učení technické (Česká republika)
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0266707
    Název souboruStaženoVelikostKomentářVerzePřístup
    0465309.pdf22 MBVydavatelský postprintpovolen
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.