Počet záznamů: 1  

Vícetryskový PVD depoziční systém

  1. 1.
    SYSNO0465021
    NázevVícetryskový PVD depoziční systém
    Překlad názvuMultijet PVD deposition system
    Tvůrce(i) Šmíd, Jiří (FZU-D)
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Vyd. údaje2016
    PoddruhFunkční vzorek
    Int.kódUHV-4DK/FZU2016
    Technické parametryVýsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
    Ekonomické parametryVyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
    Název vlastníkaFyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Na Slovance 2, Praha 8
    Druh dok.Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor
    Grant TF01000084 GA TA ČR - Technologická agentura České republiky, CZ - Česká republika
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    Jazyk dok.cze
    Země vyd.CZ
    Klíč.slova hollow cathode discharge * multi plasma-jet * thin films * PVD * sputtering
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0263763