Počet záznamů: 1
Vícetryskový PVD depoziční systém
- 1.
SYSNO 0465021 Název Vícetryskový PVD depoziční systém Překlad názvu Multijet PVD deposition system Tvůrce(i) Šmíd, Jiří (FZU-D)
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAIVyd. údaje 2016 Poddruh Funkční vzorek Int.kód UHV-4DK/FZU2016 Technické parametry Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod. Ekonomické parametry Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost. Název vlastníka Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Na Slovance 2, Praha 8 Druh dok. Prototyp, metodika, f.vzorek, aut.software, apl.výzkum-normy, u.vzor Grant TF01000084 GA TA ČR - Technologická agentura ČR, CZ - Česká republika Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Jazyk dok. cze Země vyd. CZ Klíč.slova hollow cathode discharge * multi plasma-jet * thin films * PVD * sputtering Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0263763
Počet záznamů: 1