Počet záznamů: 1
The combined technological methods for deposition of Si:H thin films and structures with in situ embedded nanoparticles
- 1.
SYSNO 0451866 Název The combined technological methods for deposition of Si:H thin films and structures with in situ embedded nanoparticles Tvůrce(i) Stuchlík, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Stuchlíková, The-Ha (FZU-D) RID, ORCID
Remeš, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
Purkrt, Adam (FZU-D) RID
Fajgar, Radek (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Koštejn, Martin (UCHP-M) RID, SAI, ORCID
Zhuravlev, K. (RU)
Kupčík, Jaroslav (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
Sveshnikova, L. (RU)
Galkin, K.N. (RU)
Galkin, N.G. (RU)Zdroj.dok. Advanced Science, Engineering and Medicine. Roč. 7, č. 4 (2015), s. 265-269 Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant LH12236 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 ; UCHP-M - RVO:67985858 Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova PECVD * RDE * LA * RLA * VE * PT Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0252930
Počet záznamů: 1