Počet záznamů: 1

Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber

SYSNO	0449004
Název	Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber
Tvůrce(i)	Pokorný, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Musil, Jindřich (FZU-D)_{RID, ORCID} Fitl, Přemysl (FZU-D)_{RID, ORCID} Novotný, Michal (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Lančok, Ján (FZU-D)_{RID, ORCID} Bulíř, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Plasma Processes and Polymers. Roč. 12, č. 5 (2015), s. 416-421. - : Wiley
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	GAP108/11/1298 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
	GAP108/11/1312 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
	GAP108/11/0958 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
	GA14-10279S GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	DE
Klíč.slova	contamination * low-pressure discharges * magnetron * metallic films * sputtering
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0250593

Počet záznamů: 1