Počet záznamů: 1

SMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci

SYSNO	0426257
Název	SMV-2013-19: Řešení nanolitografického systému založeného na dvoufotonové fotopolymerizaci
Překlad názvu	SMV-2013-19: Nanolithography system based on two-photon photopolymerization
Tvůrce(i)	Jákl, Petr (UPT-D)_{RID, ORCID, SAI} Šerý, Mojmír (UPT-D)_{RID, SAI} Zemánek, Pavel (UPT-D)_{RID, SAI, ORCID}
Vyd. údaje	Brno: Měřící technika Morava s.r.o, 2013
Druh dok.	Výzkumná zpráva
Grant	neveřejné zdroje
Jazyk dok.	cze
Země vyd.	CZ
Klíč.slova	holography * laser beam shaping * polymerization
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0232033

Počet záznamů: 1