Počet záznamů: 1

Reactive ion etching of polystyrene microspheres

SYSNO	0425611
Název	Reactive ion etching of polystyrene microspheres
Tvůrce(i)	Domonkos, Mária (FZU-D)_RID Ižák, Tibor (FZU-D)_RID Štolcová, L. (CZ) Proška, J. (CZ) Kromka, Alexander (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013. S. 24-28. - Praha : ČVUT, 2013 / Nežerka V. ; Rácová Z. ; Ryparová P. ; Tesárek P.
Konference	Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013, Praha, 12.06.2013-12.06.2013
Druh dok.	Konferenční příspěvek (tuzemská konf.)
Grant	GBP108/12/G108 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	CZ
Klíč.slova	nanosphere lithography * reactive ion etching * polystyrene microspheres * Langmuir-Blodgett monolayers
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0231433

Počet záznamů: 1