Počet záznamů: 1
Specific features of depth distribution profiles of implanted cobalt ions in rutile TiO(2)
- 1.
SYSNO 0365920 Název Specific features of depth distribution profiles of implanted cobalt ions in rutile TiO(2) Tvůrce(i) Achkeev, A. A. (RU)
Khaibullin, R. I. (RU)
Tagirov, L.R. (RU)
Macková, Anna (UJF-V) [ONF] RID, ORCID, SAI
Hnatowicz, Vladimír (UJF-V) [ONF] RID
Cherkashin, N. (FR)Zdroj.dok. Physics of the Solid State. Roč. 53, č. 3 (2011), s. 543-553. - : Pleiades Publishing Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant GA106/09/0125 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10480505 - UJF-V (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. RU Klíč.slova ROOM-TEMPERATURE FERROMAGNETISM * SEMICONDUCTORS * OXIDE Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0006615
Počet záznamů: 1