Počet záznamů: 1  

Effect of nitrogen doping on TiO.sub.x./sub.N.sub.y./sub. thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering

  1. 1.
    SYSNO0358730
    NázevEffect of nitrogen doping on TiOxNy thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering
    Tvůrce(i) Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
    Quaas, M. (DE)
    Bogdanowicz, R. (PL)
    Steffen, H. (DE)
    Wulff, H. (DE)
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Tichý, M. (CZ)
    Hippler, R. (DE)
    Zdroj.dok. Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 43, č. 28 (2010), s. 1-7. - : Institute of Physics Publishing
    Druh dok.Článek v odborném periodiku
    Grant KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd
    1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
    M100100915, CZ - Česká republika
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    Jazyk dok.eng
    Země vyd.GB
    Klíč.slova magnetron sputtering * TiO2 * pulse discharge * XRD * band gap
    URLhttp://iopscience.iop.org/0022-3727/43/28/285203/
    Trvalý linkhttp://hdl.handle.net/11104/0196679
     
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.