Počet záznamů: 1
Effect of nitrogen doping on TiO.sub.x./sub.N.sub.y./sub. thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering
- 1.
SYSNO 0358730 Název Effect of nitrogen doping on TiOxNy thin film formation at reactive high-power pulsed magnetron sputtering Tvůrce(i) Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Quaas, M. (DE)
Bogdanowicz, R. (PL)
Steffen, H. (DE)
Wulff, H. (DE)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Tichý, M. (CZ)
Hippler, R. (DE)Zdroj.dok. Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 43, č. 28 (2010), s. 1-7. - : Institute of Physics Publishing Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd 1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika M100100915, CZ - Česká republika CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. GB Klíč.slova magnetron sputtering * TiO2 * pulse discharge * XRD * band gap URL http://iopscience.iop.org/0022-3727/43/28/285203/ Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0196679
Počet záznamů: 1