Počet záznamů: 1

Enhancement of YBCO thin film thermal stability under 1 ATM oxygen pressure by Intermediate Cu.sub.2./sub. O nanolayer

SYSNO	0347871
Název	Enhancement of YBCO thin film thermal stability under 1 ATM oxygen pressure by Intermediate Cu₂ O nanolayer
Tvůrce(i)	Cheng, L. (CN) Wang, X. (CN) Yao, X. (CN) Wan, W. (CN) Li, F.H. (CN) Xiong, J. (CN) Tao, B.W. (CN) Jirsa, Miloš (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Journal of Physical Chemistry B. Roč. 114, č. 22 (2010), s. 7543-7547. - : American Chemical Society
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	ME10069 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
CEZ	AV0Z10100520 - FZU-D (2005-2011)
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	US
Klíč.slova	YBCO thin films * thermal stability * thin film growth orientation * temperature optical microscopy
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0006036

Počet záznamů: 1