Počet záznamů: 1

Ultrasharp Si nanowires produced by plasma-enhanced chemical vapor deposition

SYSNO	0341570
Název	Ultrasharp Si nanowires produced by plasma-enhanced chemical vapor deposition
Tvůrce(i)	Červenka, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Ledinský, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Stuchlíková, The-Ha (FZU-D)_{RID, ORCID} Stuchlík, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Výborný, Zdeněk (FZU-D) Holovský, Jakub (FZU-D)_{RID, ORCID} Hruška, Karel (FZU-D)_{RID, ORCID} Fejfar, Antonín (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kočka, Jan (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Physica Status Solidi : Rapid Research Letters. Roč. 4, 1-2 (2010), s. 37-39. - : Wiley
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	LC06040 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika
	KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd
	LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
CEZ	AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	DE
Klíč.slova	nanowires * silicon * scanning electron microscopy * hemical vapor deposition * Raman spectroscopy
URL	http://www3.interscience.wiley.com/cgi-bin/fulltext/123213957/HTMLSTART
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0184509

Počet záznamů: 1