Počet záznamů: 1

LiF enhanced nucleation of the low temperature microcrystalline silicon prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition

SYSNO	0336628
Název	LiF enhanced nucleation of the low temperature microcrystalline silicon prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition
Tvůrce(i)	Stuchlík, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Ledinský, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Honda, Shinya (FZU-D) Drbohlav, Ivo (FZU-D)_{RID, ORCID} Mates, Tomáš (FZU-D)_{RID, ORCID} Fejfar, Antonín (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Hruška, Karel (FZU-D)_{RID, ORCID} Stuchlíková, The-Ha (FZU-D)_{RID, ORCID} Kočka, Jan (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Thin Solid Films. Roč. 517, č. 24 (2009), s. 6829-6832. - : Elsevier
Druh dok.	Článek v odborném periodiku
Grant	KAN400100701 GA AV ČR - Akademie věd
	GD202/05/H003 GA ČR - Grantová agentura ČR, CZ - Česká republika
	LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	IAA1010413 GA AV ČR - Akademie věd
CEZ	AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
Jazyk dok.	eng
Země vyd.	CH
Klíč.slova	amorphous hydrogenated silicon * atomic force microscopy * plasma-enhanced chemical vapour deposition, * nucleation * Raman scattering * lithium fluoride
Trvalý link	http://hdl.handle.net/11104/0180823

Počet záznamů: 1