Počet záznamů: 1
Interaction of intense ultrashort XUV pulses with silicon
- 1.
SYSNO 0335956 Název Interaction of intense ultrashort XUV pulses with silicon Překlad názvu Interakce intenzivních ultra-krátkých XUV pulzů s křemíkem Tvůrce(i) Sobierajski, R. (PL)
Klinger, D. (PL)
Jurek, M. (PL)
Pelka, J. B. (PL)
Juha, Libor (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Chalupský, Jaromír (FZU-D) RID, ORCID
Cihelka, Jaroslav (FZU-D)
Hájková, Věra (FZU-D) RID, ORCID
Vyšín, Luděk (FZU-D) RID, ORCID
Jastrow, U. (DE)
Stojanovic, N. (DE)
Toleikis, S. (DE)
Wabnitz, H. (DE)
Krzywinski, J. (US)
Hau-Riege, S. (US)
London, R. (US)Zdroj.dok. Damage to VUV, EUV, and X-ray Optics II. 736107/1-736107/11. - Bellingham : SPIE, 2009 / Juha L. ; Bajt S. ; Sobierajski R. Konference Damage to VUV, EUV, and X-Ray Optics II, Prague, 21.04.2009-23.04.2009 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) Grant KAN300100702 GA AV ČR - Akademie věd LC510 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy LC528 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy, CZ - Česká republika LA08024 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy IAA400100701 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100523 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. US Klíč.slova radiation damage * amorphization * ablation * monocrystalline silicon * soft x-ray free-electron laser URL http://dx.doi.org/10.1117/12.822152 Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0180297
Počet záznamů: 1