Počet záznamů: 1
Conjugated Silicon – Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Mediated Degradation Processes in Polysilanes
- 1.
SYSNO 0335299 Název Conjugated Silicon – Based Polymer Resists for Nanotechnologies: EB and UV Mediated Degradation Processes in Polysilanes Tvůrce(i) Schauer, F. (CZ)
Schauer, Petr (UPT-D) RID, SAI, ORCID
Kuřitka, I. (CZ)
Hua, B. (CN)Zdroj.dok. Proceedings of the 4th Czech-Japan-China Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology (CJCS’09). S. 28. - Brno : ISI AS CR, 2009 / Pokorná Zuzana ; Mika Filip Konference CJCS’09 - Czech-Japan-China Cooperative Symposium on Nanostructure of Advanced Materials and Nanotechnology /4./, Brno, 10.08.2009-14.08.2009 Druh dok. Konferenční příspěvek (zahraniční konf.) CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. CZ Klíč.slova photoluminescence * cathodoluminescence * silicon-based polymer resist Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0179805
Počet záznamů: 1