Počet záznamů: 1
Physical properties of homogeneous TiO.sub.2./sub. films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure
- 1.
SYSNO 0334335 Název Physical properties of homogeneous TiO2 films prepared by high power impulse magnetron sputtering as a function of crystallographic phase and nanostructure Překlad názvu Fyzikální vlastnosti homogenních TiO2 vrstev připravovaných pomocí vysokovýkonového pulzního magnetronového odprašování v závislosti na krystalografické fázi a nanostruktuře Tvůrce(i) Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Quaas, M. (DE)
Block, S. (DE)
Bogdanowicz, R. (PL)
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Wulff, H. (DE)
Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Helm, Ch.A. (DE)
Tichý, M. (CZ)
Hippler, R. (DE)Zdroj.dok. Journal of Physics D-Applied Physics. Roč. 42, č. 10 (2009), 105204/1-105204/12. - : Institute of Physics Publishing Druh dok. Článek v odborném periodiku Grant KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd KJB100100805 GA AV ČR - Akademie věd KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Jazyk dok. eng Země vyd. GB Klíč.slova TiO2 * high power magnteron sputtering * plasma diagnostic * film diagnostic Trvalý link http://hdl.handle.net/11104/0179099
Počet záznamů: 1