Počet záznamů: 1  

Surface stoichiometry and depth profile of Ti.sub.x./sub.-Cu.sub.y./sub.N.sub.z./sub. thin films deposited by magnetron sputtering

  1. 1.
    SYSNO ASEP0552187
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevSurface stoichiometry and depth profile of Tix-CuyNz thin films deposited by magnetron sputtering
    Tvůrce(i) Mukhopadhyay, A.K. (IN)
    Roy, A. (IN)
    Bhattacharjee, G. (IN)
    Das, S.C. (IN)
    Majumdar, A. (IN)
    Wulff, H. (DE)
    Hippler, Rainer (FZU-D) ORCID
    Celkový počet autorů7
    Číslo článku3191
    Zdroj.dok.Materials. - : MDPI
    Roč. 14, č. 12 (2021)
    Poč.str.14 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CH - Švýcarsko
    Klíč. slovamagnetron sputtering ; Ti-Cu-N coating ; N incorporation ; X-ray photoelectron spectroscopy ; X-ray diffraction ; transmission electron microscopy
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECDFluids and plasma physics (including surface physics)
    Způsob publikováníOpen access
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000667019900001
    EID SCOPUS85108311702
    DOI10.3390/ma14123191
    AnotaceWe report the surface stoichiometry of Tix-CuyNz thin film as a function of film depth. Films are deposited by high power impulse (HiPIMS) and DC magnetron sputtering (DCMS). The composition of Ti, Cu, and N in the deposited film is investigated by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). At a larger depth, the relative composition of Cu and Ti in the film is increased compared to the surface. The amount of adventitious carbon which is present on the film surface strongly decreases with film depth. Deposited films also contain a significant amount of oxygen whose origin is not fully clear. Grazing incidence X-ray diffraction (GIXD) shows a Cu3N phase on the surface, while transmission electron microscopy (TEM) indicates a polycrystalline structure and the presence of a Ti3CuN phase.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2022
    Elektronická adresahttp://hdl.handle.net/11104/0327392
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.