Počet záznamů: 1  

Acquisition of the dopant contrast in semiconductors with slow electrons

  1. 1.
    SYSNO ASEP0525062
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevAcquisition of the dopant contrast in semiconductors with slow electrons
    Tvůrce(i) Frank, Luděk (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Hovorka, Miloš (UPT-D)
    El Gomati, M. M. (GB)
    Müllerová, Ilona (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Mika, Filip (UPT-D) RID, SAI, ORCID
    Mikmeková, Eliška (UPT-D) RID
    Celkový počet autorů6
    Číslo článku146836
    Zdroj.dok.Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. - : Elsevier - ISSN 0368-2048
    Roč. 241, MAY (2020)
    Poč.str.10 s.
    Forma vydáníTištěná - P
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.NL - Nizozemsko
    Klíč. slovasemiconductors ; dopant contrast ; low energy SEM ; PEEM ; mirror electron microscopy ; surface treatments
    Vědní obor RIVJA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika
    Obor OECDElectrical and electronic engineering
    CEPTE01020118 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
    LO1212 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    ED0017/01/01 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Způsob publikováníOpen access
    Institucionální podporaUPT-D - RVO:68081731
    UT WOS000540723700005
    EID SCOPUS85063225896
    DOI10.1016/j.elspec.2019.03.004
    AnotaceMethods available for the mapping of dopants in silicon-based semiconductor structures with p-type as well as n-type doped patterns using low and very-low-energy electrons are reviewed together with the results of demonstration experiments.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2021
    Elektronická adresahttps://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S036820481830135X
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.