Počet záznamů: 1
Photo-electrochemical stability of copper oxide photocathodes deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering
- 1.
SYSNO ASEP 0512095 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Photo-electrochemical stability of copper oxide photocathodes deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Zlámal, M. (CZ)
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Krysa, J. (CZ)Celkový počet autorů 5 Zdroj.dok. Catalysis Today. - : Elsevier - ISSN 0920-5861
Roč. 328, May (2019), s. 29-34Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. NL - Nizozemsko Klíč. slova high power impulse magnetron sputtering ; reactive sputtering ; magnetron discharge ; photocathode ; photocurrent ; copper oxide Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus Obor OECD Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.) CEP GA17-20008S GA ČR - Grantová agentura ČR EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy Způsob publikování Omezený přístup Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000461462200006 EID SCOPUS 85057216402 DOI 10.1016/j.cattod.2018.11.034 Anotace Copper oxide thin films were deposited by a reactive high power impulse magnetron sputtering (r-HIPIMS) on glass substrates with a SnO2:F (FTO) layer. The pulse magnetron discharge was analyzed via the radio frequency (RF) Sobolewski probe, used for the time-resolved measurement of ion flux density on the substrate. Pulsed discharge current and voltage waveforms were analyzed.
Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2020 Elektronická adresa https://doi.org/10.1016/j.cattod.2018.11.034
Počet záznamů: 1