Počet záznamů: 1

Photo-electrochemical stability of copper oxide photocathodes deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering

SYSNO ASEP	0512095
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Článek ve WOS
Název	Photo-electrochemical stability of copper oxide photocathodes deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering
Tvůrce(i)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Zlámal, M. (CZ) Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Krysa, J. (CZ)
Celkový počet autorů	5
Zdroj.dok.	Catalysis Today. - : Elsevier - ISSN 0920-5861 Roč. 328, May (2019), s. 29-34
Poč.str.	6 s.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	NL - Nizozemsko
Klíč. slova	high power impulse magnetron sputtering ; reactive sputtering ; magnetron discharge ; photocathode ; photocurrent ; copper oxide
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
Obor OECD	Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
CEP	GA17-20008S GA ČR - Grantová agentura ČR
	EF16_019/0000760 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
Způsob publikování	Omezený přístup
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
UT WOS	000461462200006
EID SCOPUS	85057216402
DOI	10.1016/j.cattod.2018.11.034
Anotace	Copper oxide thin films were deposited by a reactive high power impulse magnetron sputtering (r-HIPIMS) on glass substrates with a SnO2:F (FTO) layer. The pulse magnetron discharge was analyzed via the radio frequency (RF) Sobolewski probe, used for the time-resolved measurement of ion flux density on the substrate. Pulsed discharge current and voltage waveforms were analyzed.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2020
Elektronická adresa	https://doi.org/10.1016/j.cattod.2018.11.034

Počet záznamů: 1