Počet záznamů: 1  

Quasi-Moseley's law for strong narrow bandwidth soft x-ray sources containing higher charge-state ions

  1. 1.
    SYSNO ASEP0510672
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevQuasi-Moseley's law for strong narrow bandwidth soft x-ray sources containing higher charge-state ions
    Tvůrce(i) Ohashi, H. (JP)
    Higashiguchi, T. (JP)
    Suzuki, Y. (JP)
    Arai, G. (JP)
    Otani, Y. (JP)
    Yatagai, T. (JP)
    Li, B. (CN)
    Dunne, P. (IE)
    O'Sullivan, G. (IE)
    Jiang, W. (JP)
    Endo, Akira (FZU-D) RID
    Sakaue, H.A. (JP)
    Kato, D. (JP)
    Murakami, I. (JP)
    Tamura, M. (JP)
    Sudo, S. (JP)
    Koike, F. (JP)
    Suzuki, Ch. (JP)
    Celkový počet autorů18
    Číslo článku234107
    Zdroj.dok.Applied Physics Letters. - : AIP Publishing - ISSN 0003-6951
    Roč. 104, č. 23 (2014), s. 1-5
    Poč.str.5 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovathin plasmas of high-Z elements ; x-ray microscopy
    Vědní obor RIVBH - Optika, masery a lasery
    Obor OECDOptics (including laser optics and quantum optics)
    CEPED2.1.00/01.0027 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    EE2.3.20.0143 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    Způsob publikováníOmezený přístup
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000337891200107
    EID SCOPUS84902449427
    DOI10.1063/1.4883475
    AnotaceBright narrow band emission observed in optically thin plasmas of high-Z elements in the extreme ultraviolet spectral region follows a quasi-Moseley’s law. The peak wavelength can be expressed as k ¼ ð21:86 6 12:09Þ R1 1 ðZ ð23:23 6 2:87ÞÞð1:52 6 0:12Þ , where R1 is the Rydberg constant. The wavelength varies from 13.5 nm to 4.0 nm as the atomic number, Z, increases from Z ¼ 50 to Z ¼ 83. The range of emission wavelengths available from hot optically thin plasmas permits the development of bright laboratory-scale sources for applications including x-ray microscopy and x-ray absorption fine structure determination.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2020
    Elektronická adresahttps://doi.org/10.1063/1.4883475
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.