Počet záznamů: 1  

Surfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm

  1. 1.
    SYSNO ASEP0486974
    Druh ASEPL - Prototyp, funkční vzorek
    Zařazení RIVG - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
    Poddruh RIVFunkční vzorek
    NázevSurfatronový plazmový zdroj pro substráty o velikosti do 100 mm
    Překlad názvuSurfatron plasma source for substrates up to 100 mm
    Tvůrce(i) Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID
    Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID
    Tvarog, Drahoslav (FZU-D)
    Pultar, M. (CZ)
    Šmíd, Jiří (FZU-D)
    Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID
    Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
    Poruba, Aleš (FZU-D) RID
    Vaněk, J. (CZ)
    Pečiva, L. (CZ)
    Lukašík, P. (CZ)
    Dolák, J. (CZ)
    Rok vydání2017
    Int.kódFV1/FZU/2017
    Technické parametryLaboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
    Ekonomické parametryVyvinutý plazmový zdroj umožní zkonstruovat a vyrobit unikátní PE-ALD depoziční systém. Náklady na výrobu celého zařízení nepřesáhly 50 000 Kč.
    Název vlastníkaFyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
    IČ vlastníka68378271
    Kat.výsl.dle nákl.A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
    Využ. jiným subjektemA - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
    Požad. na licenč. popl.A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
    Jazyk dok.cze - čeština
    Země vlastníkaCZ - Česká republika
    Klíč. slovaMicrowave surfatron ; thin films ; low-temperature plasma ; ALD ; deposition ; plasma diagnostics
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    Obor OECDFluids and plasma physics (including surface physics)
    CEPTF03000025 GA TA ČR - Technologická agentura České republiky
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceV rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli a implementovali mikrovlnný tryskový zdroj plazmatu nazývaný surfatron vhodný pro použití v ALD depozičním systému. Změřené parametry plazmatu prokázali, že surfatronový zdroj plazmatu je schopný generovat nízkoteplotní plazma s parametry vykazující lepší jak 10% nehomogenitu v místě uložení podložky.
    Překlad anotaceAs part of the TACR project, we have developed and implemented a microwave plasma jet source called surfatron suitable for use in the ALD deposition system. The measured plasma parameters showed that the surfatron is capable of generating the low-temperature plasma with parameters exhibiting better than 10% inhomogeneity in vicinity of substrate.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktEva Pulcmanová, pulcman@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2018