Počet záznamů: 1

Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu

SYSNO ASEP	0476548
Druh ASEP	P - Patent
Zařazení RIV	P - Patent nebo jiný výsledek chráněný podle zvláštních právních předpisů
Název	Způsob měření depozičního nízkotlakého plazmatu s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu
Překlad názvu	A method of measuring deposition low pressure plasma using wave resonance of electron cyclotron waves and a device for performing this method
Tvůrce(i)	Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Kment, Štěpán (FZU-D)_{RID, ORCID} Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Adámek, Jan (FZU-D) Straňák, Vítězslav (FZU-D)_{RID, ORCID}
Rok vydání	2017
Využití jiným subj.	A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence
Lic. popl.	A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek
Číslo pat.spisu	306799
Datum udělení	31.05.2017
Vlastník patentu	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i
Kód vydavatele patentu	CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague
Využití	A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem
Jazyk dok.	cze - čeština
Klíč. slova	plasma deposition ; electrone-cyclotrone wave ; acoustic emission
Vědní obor RIV	BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Obor OECD	Fluids and plasma physics (including surface physics)
CEP	TA03010743 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Anotace	Byl realizován způsob měření parametrů nízkotlakého plazmatu, které se používá pro různé aplikace jako je plazmatická depozice tenkých vrstev, plazmové leptání, plazmové iontové zdroje atd. a týká se způsobu měření s využitím vlnové rezonance elektronové cyklotronové vlny a zařízení k provádění tohoto způsobu.Měřící systém je součástí zařízení pro přípravu detekčních struktur akustické emise.
Překlad anotace	A method for measuring low-pressure plasma parameters used for various applications such as plasma thin film deposition, plasma etching, plasma ion sources, etc., has been realized and corresponds to the method of measurement using wave resonance of electrone-cyclotrone wave and device for realization of this method. The measurement system Is part of the device for the preparation of acoustic emission detection structures.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2017
Elektronická adresa	https://isdv.upv.cz/webapp/webapp.pts.det?xprim=10195504&lan=cs&s_majs=&s_puvo=&s_naze=&s_anot=

Počet záznamů: 1