Počet záznamů: 1

Vícetryskový PVD depoziční systém

SYSNO ASEP	0465021
Druh ASEP	L - Prototyp, funkční vzorek
Zařazení RIV	G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Poddruh RIV	Funkční vzorek
Název	Vícetryskový PVD depoziční systém
Překlad názvu	Multijet PVD deposition system
Tvůrce(i)	Šmíd, Jiří (FZU-D) Olejníček, Jiří (FZU-D)_{RID, ORCID} Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Rok vydání	2016
Int.kód	UHV-4DK/FZU2016
Technické parametry	Výsledek je tvořen UHV systémem čerpaným rotační a turbomolekulární vývěvou a obsahuje 4 lineární plazmové trysky pracující na principu výboje v duté katodě. Systém je průběžně upgradován. Ve spouštěcí konfi-guraci měl následující technické parametry: mezní tlak p0: 1x10-3 Pa, pracovní tlak pw: 0.1 – 100 Pa, maximální napětí na zdroji: Um: 600 V, maximální výbojový proud: Im: 5 A, příčný rozměr substrátu lm: až 20 cm, maximální depoziční rychlost dosažená pro TiO2 vrstvy rm: 20 μm/hod.
Ekonomické parametry	Vyvinutý depoziční systém umožňuje vysokorychlostní depozici homogenních oxidových vrstev. Oproti dostupným komerčním magnetronovým systémům dosahuje v DC režimu až desetinásobnou depoziční rychlost.
Název vlastníka	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i., Na Slovance 2, Praha 8
IČ vlastníka	68378271
Kat.výsl.dle nákl.	A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč
Využ. jiným subjektem	P - Využití výsledku jiným subjektem je v některých případech možné bez nabytí licence
Požad. na licenč. popl.	Z - Poskytovatel licence nepožaduje v některých případech licenční poplatek
Jazyk dok.	cze - čeština
Země vlastníka	CZ - Česká republika
Klíč. slova	hollow cathode discharge ; multi plasma-jet ; thin films ; PVD ; sputtering
Vědní obor RIV	BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
CEP	TF01000084 GA TA ČR - Technologická agentura ČR
Institucionální podpora	FZU-D - RVO:68378271
Anotace	Funkční vzorek představuje vysokorychlostní depoziční zařízení určené primárně pro nanášení homogenních oxidových vrstev. Systém využívá několik plazmatických trysek umístěných do jedné řady, které pracují na principu výboje v duté katodě. Vysoké depoziční rychlosti je dosahováno kombinací nereaktivního rozprašování ve vnitřním prostoru duté katody a tepelnou evaporací materiálu z povrchu trysky.
Překlad anotace	High speed deposition system for homogenous sputtering of oxide thin films. The system uses several plasma-nozzles mounted in one line, which work on the principle of hollow cathode discharge. High speed of deposition process is achieved by combination of non-reactive sputtering inside the hollow cathode with thermal evaporation of hollow cathode material.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2017

Počet záznamů: 1