Počet záznamů: 1  

Strain-controlled optical absorption in epitaxial ferroelectric BaTiO.sub.3./sub. films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0449010
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevStrain-controlled optical absorption in epitaxial ferroelectric BaTiO3 films
    Tvůrce(i) Chernova, Ekaterina (FZU-D)
    Pacherová, Oliva (FZU-D) RID, ORCID
    Chvostová, Dagmar (FZU-D) RID, SAI, ORCID
    Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
    Kocourek, Tomáš (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Jelínek, Miroslav (FZU-D) RID, ORCID
    Tyunina, Marina (FZU-D) ORCID
    Zdroj.dok.Applied Physics Letters. - : AIP Publishing - ISSN 0003-6951
    Roč. 106, č. 19 (2015), "192903-1"-"192903-4"
    Poč.str.4 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovathin-films ; polarization ; evolution ; SrTiO3
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEPGA15-13778S GA ČR - Grantová agentura ČR
    GA15-15123S GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    UT WOS000355008100027
    EID SCOPUS84929379829
    DOI10.1063/1.4921083
    AnotaceA lattice strain of 0.3%-1.3% is achieved in epitaxial tetragonal BaTiO3 films grown on (001)-oriented SrTiO3 single-crystal substrates. Our experimental studies of absorption spectra in the range of 0.74-9.0 eV demonstrate that epitaxy produces significant changes in the optical properties of the films compared with those of a reference polydomain BaTiO3 crystal: the absorption edge and the peak at 5 eV strongly blue-shift by 0.2-0.4 eV, the magnitude of the peak at 5 eV drops, and certain spectral features disappear, whereas the absorption peak at 8.5 eV remains unchanged. The observed behavior is attributed to ferroelectric polarization, which is enhanced by epitaxial strain in the films. Our results indicate that epitaxially induced variations of ferroelectric polarization may be used to tailor the optical properties of thin films for photonic and optoelectronic applications.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2016
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.