Počet záznamů: 1
Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber
- 1.
SYSNO ASEP 0449004 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Contamination of magnetron sputtered metallic films by oxygen from residual atmosphere in deposition chamber Tvůrce(i) Pokorný, Petr (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Musil, Jindřich (FZU-D) RID, ORCID
Fitl, Přemysl (FZU-D) RID, ORCID
Novotný, Michal (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Lančok, Ján (FZU-D) RID, ORCID
Bulíř, Jiří (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Plasma Processes and Polymers. - : Wiley - ISSN 1612-8850
Roč. 12, č. 5 (2015), s. 416-421Poč.str. 6 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. DE - Německo Klíč. slova contamination ; low-pressure discharges ; magnetron ; metallic films ; sputtering Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEP GAP108/11/1298 GA ČR - Grantová agentura ČR GAP108/11/1312 GA ČR - Grantová agentura ČR GAP108/11/0958 GA ČR - Grantová agentura ČR GA14-10279S GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 UT WOS 000354622600002 EID SCOPUS 84929512249 DOI 10.1002/ppap.201400172 Anotace The article reports on the contamination of Ag thin films sputtered from a pure Ag target in Ar and Ne gas by the RF magnetron by gas atoms contained in residual gas atmosphere in the deposition chamber at different values of the base pressure. The amount of O atoms generated at different values of base pressure is compared with the amount of Ag atoms sputtered at different deposition rates of Ag film. This comparison reveals a great problem in the formation of pure metallic films at low deposition rates and high values of the base pressure. No pure Ag films can be deposited at low in deposition chambers evacuated with diffusion or root pumps to the base pressures lower than 1mPa only. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2016
Počet záznamů: 1