Počet záznamů: 1  

Reactive ion etching of polystyrene microspheres

  1. 1.
    SYSNO ASEP0425611
    Druh ASEPK - Konferenční příspěvek (lokální konf.)
    Zařazení RIVStať ve sborníku
    NázevReactive ion etching of polystyrene microspheres
    Tvůrce(i) Domonkos, Mária (FZU-D) RID
    Ižák, Tibor (FZU-D) RID
    Štolcová, L. (CZ)
    Proška, J. (CZ)
    Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAI
    Zdroj.dok.Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013. - Praha : ČVUT, 2013 / Nežerka V. ; Rácová Z. ; Ryparová P. ; Tesárek P. - ISBN 978-80-01-05334-8
    S. 24-28
    Poč.str.5 s.
    Forma vydáníOnline - E
    AkceNanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013
    Datum konání12.06.2013-12.06.2013
    Místo konáníPraha
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceCST
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovananosphere lithography ; reactive ion etching ; polystyrene microspheres ; Langmuir-Blodgett monolayers
    Vědní obor RIVBL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech
    CEPGBP108/12/G108 GA ČR - Grantová agentura ČR
    Institucionální podporaFZU-D - RVO:68378271
    AnotaceThis article gives a brief insight also into the principle of the nanosphere lithography and various plasma systems focusing on their properties and applicability for a subsequent topographical modification of surfaces prepared by NS lithography. In the experimental part of this study we present a successful manipulation of microspheres by reactive ion etching (RIE). A self-assembled monolayer close-packed array of monodisperse polystyrene microspheres is used as the primary template. The polystyrene microspheres (PM) were processed in capacitively coupled radiofrequency plasma (CCP) RIE system. The influence of process conditions on the PM geometry is systematically studied by scanning electron microscopy. The process conditions are controlled by varying radiofrequency power, total pressure, composition of the gas mixture (ratio O2:CF4) and process duration.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2014
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.