Počet záznamů: 1
Reactive ion etching of polystyrene microspheres
- 1.
SYSNO ASEP 0425611 Druh ASEP K - Konferenční příspěvek (lokální konf.) Zařazení RIV Stať ve sborníku Název Reactive ion etching of polystyrene microspheres Tvůrce(i) Domonkos, Mária (FZU-D) RID
Ižák, Tibor (FZU-D) RID
Štolcová, L. (CZ)
Proška, J. (CZ)
Kromka, Alexander (FZU-D) RID, ORCID, SAIZdroj.dok. Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013. - Praha : ČVUT, 2013 / Nežerka V. ; Rácová Z. ; Ryparová P. ; Tesárek P. - ISBN 978-80-01-05334-8
S. 24-28Poč.str. 5 s. Forma vydání Online - E Akce Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2013 Datum konání 12.06.2013-12.06.2013 Místo konání Praha Země CZ - Česká republika Typ akce CST Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CZ - Česká republika Klíč. slova nanosphere lithography ; reactive ion etching ; polystyrene microspheres ; Langmuir-Blodgett monolayers Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP GBP108/12/G108 GA ČR - Grantová agentura ČR Institucionální podpora FZU-D - RVO:68378271 Anotace This article gives a brief insight also into the principle of the nanosphere lithography and various plasma systems focusing on their properties and applicability for a subsequent topographical modification of surfaces prepared by NS lithography. In the experimental part of this study we present a successful manipulation of microspheres by reactive ion etching (RIE). A self-assembled monolayer close-packed array of monodisperse polystyrene microspheres is used as the primary template. The polystyrene microspheres (PM) were processed in capacitively coupled radiofrequency plasma (CCP) RIE system. The influence of process conditions on the PM geometry is systematically studied by scanning electron microscopy. The process conditions are controlled by varying radiofrequency power, total pressure, composition of the gas mixture (ratio O2:CF4) and process duration. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2014
Počet záznamů: 1