Počet záznamů: 1
Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy
- 1.
SYSNO ASEP 0390204 Druh ASEP L - Prototyp, funkční vzorek Zařazení RIV G - Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) Poddruh RIV Funkční vzorek Název Lineární diagnostický systém plazmové depozice pro velkoplošné procesy Překlad názvu Linear diagnostic system of plasma deposition for large scale processes Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Kšírová, Petra (FZU-D) RID, ORCID
Šmíd, Jiří (FZU-D)
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCIDRok vydání 2012 Int.kód FS3/FZÚ/2012 Technické parametry Typ termočlánku kalorimetrické sondy-K. Základní frekvence QCM senzoru 5000,00 kHz. Frekvenční rozsah pulzního napětí pro měření iontového toku 50-400 kHz. Frekvence RF zdroje harmonického napětí pro měření iontového toku 1 MHz Funkční vzorek byl vytvořen v rámci řešení projektu TAČR TA01011740. Hlavním řešitelem projektu je firma SVCS (která má smlouvu s TAČR c. 20110108) a FZU je spoluřešitelem. Mezi FZU a SVCS je podepsána Smlouva o spolupráci, upravující podmínky spolupráce při přípravě a řešení Projektu a využití výsledků výzkumu, která je nutnou součástí řešení projektu. Odpovědným řešitelem za FZÚ je Dr. Kromka. Cislo dokumentace (i pro TACR) i inventarni cislo je totozne s internim kodem: FS3/FZÚ/2012 Ekonomické parametry V rámci projektu TAČR byl vytvořen měřící diagnostický systém pro velkoplošné depoziční techniky. Tento systém bude součástí realizovaného vícetryskového depozičního MW systému. Název vlastníka Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. IČ vlastníka 68378271 Kat.výsl.dle nákl. A - Vyčerpaná část nákladů <= 5 mil. Kč Využ. jiným subjektem A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Požad. na licenč. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Číselná identifikace Smlouva o spolupráci mezi SVCS Process Inovation s.r.o. a FZU AV ČR ze dne 14.2.2011 Jazyk dok. cze - čeština Země vlastníka CZ - Česká republika Klíč. slova heating flux ; plasma ; ion flux ; deposition ; thin films ; deposition rate Vědní obor RIV BL - Fyzika plazmatu a výboje v plynech CEP TA01011740 GA TA ČR - Technologická agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Anotace Byl realizován lineární měřící systém depozičního plazmového procesu pro velkoplošné procesy. Ten umožnil měřit prostorovou distribuci tepelného toku, iontového toku a depoziční rychlosti Překlad anotace Linear diagnostic system of the plasma deposition process for large scale depositions was developed. This system is capable to measure spatial distribution of heating flux, ion flux and deposition rate. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2013
Počet záznamů: 1