Počet záznamů: 1

Structuring of diamond films by reactive ion plasma etching

SYSNO ASEP	0389420
Druh ASEP	K - Konferenční příspěvek (lokální konf.)
Zařazení RIV	Stať ve sborníku
Název	Structuring of diamond films by reactive ion plasma etching
Tvůrce(i)	Domonkos, M. (CZ) Ižák, Tibor (FZU-D)_RID Proška, J. (CZ) Kromka, Alexander (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI}
Zdroj.dok.	Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2012 (NaNS 2012). - Praha : ČVUT, 2012 / Rácová Z. ; Tesárek P. ; Nežerka V. ; Ryparová P. - ISBN 978-80-01-05132-0 S. 35-40
Poč.str.	6 s.
Forma vydání	Tištěná - P
Akce	Nanomateriály a nanotechnologie ve stavebnictví 2012 (NaNS 2012)
Datum konání	11.09.2012-11.09.2012
Místo konání	Praha
Země	CZ - Česká republika
Typ akce	CST
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	CZ - Česká republika
Klíč. slova	nanostructuring ; diamond thin films ; reactive ion etching ; scanning electron microscopy
Vědní obor RIV	BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
CEP	GAP108/12/0910 GA ČR - Grantová agentura ČR
	GAP108/11/0794 GA ČR - Grantová agentura ČR
	IAAX00100902 GA AV ČR - Akademie věd
CEZ	AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
Anotace	In this study, two common strategies of diamond film structuring are described. Main focus is on the comparison of top-down and the bottom-up strategies. The top-down strategy is primary related to dry reactive ion etching through masking materials (or even without mask), while bottom-up strategy is based on selective area deposition of diamond film. Several methods of both strategies are demonstrated in details in the article, regarding to their properties and basic principles.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2013

Počet záznamů: 1