Počet záznamů: 1
Plazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev
- 1.
SYSNO ASEP 0383946 Druh ASEP P1 - Užitný vzor, průmyslový vzor Zařazení RIV F - Výsledky s právní ochranou (užitný vzor, průmyslový vzor) Poddruh RIV Užitný vzor Název Plazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev Překlad názvu Plasma system developed for deposition of perovskite thin films Tvůrce(i) Hubička, Zdeněk (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Dejneka, Alexandr (FZU-D) RID, ORCID
Čada, Martin (FZU-D) RID, ORCID, SAI
Adámek, Petr (FZU-D) RID, ORCID
Jastrabík, Lubomír (FZU-D) RID, ORCID
Suchaneck, G. (DE)
Olejníček, Jiří (FZU-D) RID, ORCID
Kment, Štěpán (FZU-D) RID, ORCID
Straňák, Vítězslav (FZU-D) RID, ORCIDRok vydání 2012 Vlastník vzoru Fyzikální ústav AV ČR, v.v. i Sídlo Na Slovance 2, 182 21 Praha 8 Datum udělení vzoru 21.05.2012 Číslo vzoru 23845 Lic. popl. A - Poskytovatel licence požaduje licenční poplatek Využití A - Pouze udělený (dosud nevyužívaný) patent nebo patent využívaný jeho vlastníkem Využití jiným subjektem A - Pro využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence Kód vydavatele patentu CZ001 - Úřad průmyslového vlastnictví Prague Jazyk dok. cze - čeština Klíč. slova plasma ; magnetron sputtering ; plasma-jet ; PZT thin films Vědní obor RIV BH - Optika, masery a lasery CEP GC202/09/J017 GA ČR - Grantová agentura ČR TA01010517 GA TA ČR - Technologická agentura ČR GAP205/11/0386 GA ČR - Grantová agentura ČR CEZ AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011) Anotace Technické řešení spadá do oblasti technologických postupů depozice tenkých perovskitových, a to dielektrických, piezoelektrických i ferroelektrických, vrstev s využitím plazmochemických reakcí a pulzním ohřevem substrátu. Týká se konstrukce systému zejména pro realizaci depozice tenkých nanokrystalických vrstev Pb(ZrxTi1-x)O3 (dále vrstev PZT) za nízké teploty na polymerový substrát nebo na polymerový substrát s kovovou elektrodou. Překlad anotace The technical solution falls within the technological processes of deposition of thin perovskite, especially dielectric, piezoelectric and ferroelectric, films using plasma-chemical reactions and pulsed heating of the substrate. This applies especially for system design for implementation of deposition of thin films of nanocrystalline Pb (ZrxTi1-x)O3 (further PZT layers) at low temperature on the polymer substrate or on a polymer substrate with a metal electrode. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2013 Elektronická adresa http://spisy.upv.cz/UtilityModels/FullDocuments/FDUM0023/uv023845.pdf
Počet záznamů: 1