Počet záznamů: 1
Optical characterization of HfO(2) thin films
- 1.
SYSNO ASEP 0365941 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Optical characterization of HfO(2) thin films Tvůrce(i) Franta, D. (CZ)
Ohlídal, I. (CZ)
Nečas, D. (CZ)
Vižďa, F. (CZ)
Caha, O. (CZ)
Hasoň, M. (CZ)
Pokorný, Pavel (UPT-D) RID, SAI, ORCIDCelkový počet autorů 7 Zdroj.dok. Thin Solid Films. - : Elsevier - ISSN 0040-6090
Roč. 519, č. 18 (2011), s. 6085-6091Poč.str. 7 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CH - Švýcarsko Klíč. slova optical properties ; ellipsometry ; spectrophotometry ; hafnium oxide ; transition-metal oxide ; Urbach tail Vědní obor RIV JK - Koroze a povrchové úpravy materiálů CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) UT WOS 000292576500042 DOI 10.1016/j.tsf.2011.03.128 Anotace Hafnia films prepared onto silicon wafers at three substrate temperatures of 40, 160 and 280 degrees C are optically characterized utilizing the multi-sample method. The characterization uses the combination of variable angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry within the spectral region 1.24-6.5 eV (190-1000 nm). The structural model of the HfO(2) films includes boundary nanometric roughness, thickness non-uniformity and refractive index profile. Spectral dependences of the film optical constants are expressed using a recently developed parametrized joint density of states model describing the dielectric response of both interband transitions and excitations of localized states below the band gap. It is shown that the observed weak absorption below the band gap does not correspond to the Urbach tail. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2012
Počet záznamů: 1