Počet záznamů: 1

Time-resolved plasma parameters in the HiPIMS discharge with Ti target in Ar/O2 atmosphere

SYSNO ASEP	0364640
Druh ASEP	J - Článek v odborném periodiku
Zařazení RIV	J - Článek v odborném periodiku
Poddruh J	Článek ve WOS
Název	Time-resolved plasma parameters in the HiPIMS discharge with Ti target in Ar/O2 atmosphere
Tvůrce(i)	Čada, Martin (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Hubička, Zdeněk (FZU-D)_{RID, ORCID, SAI} Adámek, Petr (FZU-D)_{RID, ORCID} Klusoň, Jan (FZU-D) Jastrabík, Lubomír (FZU-D)_{RID, ORCID}
Zdroj.dok.	Surface and Coatings Technology. - : Elsevier - ISSN 0257-8972 Roč. 205, č. 2 (2011), S317-S321
Poč.str.	4 s.
Jazyk dok.	eng - angličtina
Země vyd.	CH - Švýcarsko
Klíč. slova	HiPIMS ; Langmuir probe ; ion flux ; reactive sputtering
Vědní obor RIV	BH - Optika, masery a lasery
CEP	GP202/09/P159 GA ČR - Grantová agentura ČR
	KJB100100805 GA AV ČR - Akademie věd
	1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
	KAN400720701 GA AV ČR - Akademie věd
	GA202/09/0800 GA ČR - Grantová agentura ČR
CEZ	AV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
UT WOS	000293258600068
DOI	10.1016/j.surfcoat.2010.11.050
Anotace	A High Power Impulse Magnetron Sputtering System(HiPIMS) equipped with a titanium target 5 cm in diameter has been investigated by means of a time-resolved Langmuir probe and time-resolved ion flux probe. The plasma parameters have been measured in a distance of 70 mm from the target face and below the racetrack. The ion flux at the substrate (placed at the same position as the Langmuir probe) has been determined from the voltage drop across a resistor connected with the planar probe. The planar probe was pulsed at a repetition rate of 50 kHz, duty cycle 50%. The effects of working gas pressure and mean discharge current have been investigated.
Pracoviště	Fyzikální ústav
Kontakt	Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
Rok sběru	2012

Počet záznamů: 1