Počet záznamů: 1  

ArF Laser Photolytic Deposition and Thermal Modification of an Ultrafine Chlorohydrocarbon

  1. 1.
    SYSNO ASEP0361345
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevArF Laser Photolytic Deposition and Thermal Modification of an Ultrafine Chlorohydrocarbon
    Tvůrce(i) Pola, Josef (UCHP-M) RID, ORCID, SAI
    Galíková, Anna (UCHP-M)
    Šubrt, Jan (UACH-T) SAI, RID
    Ouchi, A. (JP)
    Zdroj.dok.Chemical Papers. - : Springer - ISSN 0366-6352
    Roč. 64, č. 5 (2010), s. 625-629
    Poč.str.5 s.
    AkceInternational Conference of the Slovak Society of Chemical-Engineering /37./
    Datum konání24.05.2010-28.05.2010
    Místo konáníTatranské Matliare
    ZeměSK - Slovensko
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.SK - Slovensko
    Klíč. slovalaser-induced photolysis ; cis-1,2-dichloroethene ; nanostructured chlorohydrocarbon
    Vědní obor RIVCH - Jaderná a kvantová chemie, fotochemie
    CEZAV0Z40720504 - UCHP-M (2005-2011)
    AV0Z40320502 - UACH-T (2005-2011)
    UT WOS000280919800012
    DOI10.2478/s11696-010-0048-0
    AnotaceMW ArF laser irradiation of gaseous cis-dichloroethene results in fast decomposition of this compound and in deposition of solid ultrafine Cl- and H-containing carbonaceous powder which is of interest due to its sub-microscopic structure and possible reactive modification of the C-Cl bonds. The product was characterized by electron microscopy, and FTIR and Raman spectra and it was revealed that HCl, H(2), and C/H fragments are lost and graphitic features are adopted upon heating to 700A degrees C.
    PracovištěÚstav chemických procesů
    KontaktEva Jirsová, jirsova@icpf.cas.cz, Tel.: 220 390 227
    Rok sběru2012
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.