Počet záznamů: 1  

Silicon monocrystal wafers ground with various abrasive materials

  1. 1.
    SYSNO ASEP0356591
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevSilicon monocrystal wafers ground with various abrasive materials
    Tvůrce(i) Havelková, Martina (FZU-D) RID, ORCID
    Hiklová, Helena (FZU-D) RID
    Zdroj.dok.SILICON 2010. 12th Scientific and Business Conference. - Rožnov pod Radhoštěm : TECON Scientific, s.r.o., 2010 / Vojtěchovský K. - ISBN 978-80-254-7361-0
    Rozsah strans. 289-290
    Poč.str.2 s.
    AkceScientific and Business Conference SILICON 2010 /12./
    Datum konání02.11.2010-05.11.2010
    Místo konáníRožnov pod Radhoštěm
    ZeměCZ - Česká republika
    Typ akceEUR
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CZ - Česká republika
    Klíč. slovasilicon monocrystal ; abrasive materials
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEP1M06002 GA MŠMT - Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy
    KAN301370701 GA AV ČR - Akademie věd
    CEZAV0Z10100522 - FZU-D (2005-2011)
    AnotaceThe paper describes measuring of silicon wafers surface. Row of samples were made for different purposes in Themis (Rožnov pod Radhoštěm). The measuring were done with Form Talysurf Series 2 apparatus and the dependence on different conditions of cutting and grinding were monitored.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2011
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.