Počet záznamů: 1  

Gate controlled magnetoresistance in a silicon metal-oxide-semiconductor field-effect-transistor

  1. 1.
    SYSNO ASEP0354206
    Druh ASEPJ - Článek v odborném periodiku
    Zařazení RIVJ - Článek v odborném periodiku
    Poddruh JČlánek ve WOS
    NázevGate controlled magnetoresistance in a silicon metal-oxide-semiconductor field-effect-transistor
    Tvůrce(i) Ciccarelli, C. (GB)
    Park, B.G. (GB)
    Ogawa, S. (GB)
    Ferguson, A.J. (GB)
    Wunderlich, Joerg (FZU-D) RID, ORCID
    Celkový počet autorů5
    Zdroj.dok.Applied Physics Letters. - : AIP Publishing - ISSN 0003-6951
    Roč. 97, č. 8 (2010), 082106/1-082106/3
    Poč.str.3 s.
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.US - Spojené státy americké
    Klíč. slovaMOSFET
    Vědní obor RIVBM - Fyzika pevných látek a magnetismus
    CEZAV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011)
    UT WOS000281306500036
    DOI10.1063/1.3475771
    AnotaceWe present a study of the magnetoresistance (MR) of a Si metal-oxide-semiconductor field-effect-transistor (MOSFET) at the break-down regime when a magnetic field is applied perpendicular to the plane of the device.
    PracovištěFyzikální ústav
    KontaktKristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579
    Rok sběru2011
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.