Počet záznamů: 1
Gate controlled magnetoresistance in a silicon metal-oxide-semiconductor field-effect-transistor
- 1.
SYSNO ASEP 0354206 Druh ASEP J - Článek v odborném periodiku Zařazení RIV J - Článek v odborném periodiku Poddruh J Článek ve WOS Název Gate controlled magnetoresistance in a silicon metal-oxide-semiconductor field-effect-transistor Tvůrce(i) Ciccarelli, C. (GB)
Park, B.G. (GB)
Ogawa, S. (GB)
Ferguson, A.J. (GB)
Wunderlich, Joerg (FZU-D) RID, ORCIDCelkový počet autorů 5 Zdroj.dok. Applied Physics Letters. - : AIP Publishing - ISSN 0003-6951
Roč. 97, č. 8 (2010), 082106/1-082106/3Poč.str. 3 s. Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. US - Spojené státy americké Klíč. slova MOSFET Vědní obor RIV BM - Fyzika pevných látek a magnetismus CEZ AV0Z10100521 - FZU-D (2005-2011) UT WOS 000281306500036 DOI 10.1063/1.3475771 Anotace We present a study of the magnetoresistance (MR) of a Si metal-oxide-semiconductor field-effect-transistor (MOSFET) at the break-down regime when a magnetic field is applied perpendicular to the plane of the device. Pracoviště Fyzikální ústav Kontakt Kristina Potocká, potocka@fzu.cz, Tel.: 220 318 579 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1