Počet záznamů: 1  

Effect of Hydrogen on the Properties of Amorphous Carbon Nitride Films

  1. 1.
    SYSNO ASEP0352948
    Druh ASEPC - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.)
    Zařazení RIVD - Článek ve sborníku
    NázevEffect of Hydrogen on the Properties of Amorphous Carbon Nitride Films
    Tvůrce(i) Mikmeková, Eliška (UPT-D) RID
    Urbánek, Michal (UPT-D) RID
    Fořt, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID, SAI
    Di Mundo, R. (IT)
    Celkový počet autorů5
    Zdroj.dok.2010 International Conference on Manufacturing Science and Technology (ICMST 2010). - Chengdu : Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc, 2010 - ISBN 978-1-4244-8759-2
    Rozsah strans. 291-295
    Poč.str.5 s.
    AkceInternational Conference on Manufacturing Science and Technology - ICMST 2010
    Datum konání26.11.2010-28.11.2010
    Místo konáníKuala Lumpur
    ZeměMY - Malajsie
    Typ akceWRD
    Jazyk dok.eng - angličtina
    Země vyd.CN - Čína
    Klíč. slovahydrogenated alfa-CNx films ; ressidal stress ; r. f. magnetron sputtering ; SLEEM ; XPS ; TDMS ; AFM
    Vědní obor RIVJI - Kompozitní materiály
    CEZAV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011)
    UT WOS000309016401232
    Anotacerf - The effect of hydrogen on the properties of amorphous carbon nitride films deposited onto Si substrates by magnetron sputtering device has been studied.
    PracovištěÚstav přístrojové techniky
    KontaktMartina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178
    Rok sběru2011
Počet záznamů: 1  

  Tyto stránky využívají soubory cookies, které usnadňují jejich prohlížení. Další informace o tom jak používáme cookies.