Počet záznamů: 1
Effect of Hydrogen on the Properties of Amorphous Carbon Nitride Films
- 1.
SYSNO ASEP 0352948 Druh ASEP C - Konferenční příspěvek (mezinárodní konf.) Zařazení RIV D - Článek ve sborníku Název Effect of Hydrogen on the Properties of Amorphous Carbon Nitride Films Tvůrce(i) Mikmeková, Eliška (UPT-D) RID
Urbánek, Michal (UPT-D) RID
Fořt, Tomáš (UPT-D) RID, ORCID, SAI
Di Mundo, R. (IT)Celkový počet autorů 5 Zdroj.dok. 2010 International Conference on Manufacturing Science and Technology (ICMST 2010). - Chengdu : Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc, 2010 - ISBN 978-1-4244-8759-2 Rozsah stran s. 291-295 Poč.str. 5 s. Akce International Conference on Manufacturing Science and Technology - ICMST 2010 Datum konání 26.11.2010-28.11.2010 Místo konání Kuala Lumpur Země MY - Malajsie Typ akce WRD Jazyk dok. eng - angličtina Země vyd. CN - Čína Klíč. slova hydrogenated alfa-CNx films ; ressidal stress ; r. f. magnetron sputtering ; SLEEM ; XPS ; TDMS ; AFM Vědní obor RIV JI - Kompozitní materiály CEZ AV0Z20650511 - UPT-D (2005-2011) UT WOS 000309016401232 Anotace rf - The effect of hydrogen on the properties of amorphous carbon nitride films deposited onto Si substrates by magnetron sputtering device has been studied. Pracoviště Ústav přístrojové techniky Kontakt Martina Šillerová, sillerova@ISIBrno.Cz, Tel.: 541 514 178 Rok sběru 2011
Počet záznamů: 1